以上为北京时间。链接检查不代表仍在招聘,申请前请以招聘官网为准。
按这个岗位的城市和方向提醒,确认后才开启,可选择每日或每周。
该页面介绍富山事业所作为半导体制造装置从开发到制造的重要据点,涵盖过程开发、装置系统开发、评价、生产等区域,并配备培训、展示、餐饮、宿舍等完善配套设施。
【本社・事業所を覗く:富山事業所】
半導体製造装置の開発から製造まで行う重要拠点。厳しいセキュリティに守られており、普段はなかなか目にすることができない富山事業所の施設・設備を紹介します。
01 プロセス開発エリア:次世代半導体デバイスに対応したプロセスや要素開発を実施。デバイストレンドや顧客ニーズに適応するプロセス条件の開発や新規原料の検討、成膜の評価・測定などを行っている。シミュレーション技術や各種成膜実験の評価、高度な測定技術等を活用し、熱流体力学、機械工学、制御工学、電気・電子工学、マテリアル工学、物理工学、プラズマ工学といった幅広い分野の技術が求められる。
02 装置システム開発エリア:次世代半導体デバイスに対応した装置や要素開発を実施。高難易度な成膜を実現するための装置システムやコンポーネントの開発、顧客ニーズに適応する装置の設計、改善を行っており、ハードウェア設計(機械、電気、シミュレーション)、ソフトウェア設計を担当するエンジニアが在籍。
03 評価エリア:厳しい評価試験を繰り返すことで高度化・複雑化する要求に対応。社内開発向けの半導体製造装置を使って成膜処理やトリートメント処理を行い、膜厚測定・異物検査・各種物理分析・観察等、ナノレベルの評価を実施。DRAM、3D-NAND、Logic等の半導体デバイスの性能向上に伴い、ますます高度化・三次元化するお客様の要求に応えている。
04 生産エリア:クリーンな環境下で無駄を省いた効率の良い生産を実現。装置の組み立てなどを行い、清浄度がクラス5000というクリーンルームになっている。当社のバッチ成膜装置は、ウェーハを縦に高く積み上げて処理を行うため、高さ4m以上、横幅1m強で、省スペースで高い生産性を発揮。
05 トレーニングセンタ:富山事業所のすぐ近くにある西山館では、当社グループの装置のメンテナンスや操作方法をレクチャーするスタンダードトレーニングをはじめ、装置を効率よく運用いただくためのサポートを行っている。
06 展示室:当社グループの製品の歴史を紐解く資料を展示。沿革や製品の変遷、国内外のグループ会社とブランチの拠点などを展示。
07 カフェテリア:食事の充実で社員をおいしくサポート。約1,400人の従業員を「食」からバックアップ。立山連峰を見渡せる眺望と500席の広々大空間。会社の福利制度として喫食費用の約半額を会社負担。
专业技术服务业
负责半导体制造装置的机械设计及仿真业务,包括流体、热反应、プラズマ等解析。参与装置的构想、设计、试作、评审和评估,与电气及工艺工程师协作完成系统设计。